真空燒燼爐



真空燒燼爐(又名真空清潔爐)

原理:
利用高溫真空之環境將附著於磊晶石墨載片盤上之殘留沾黏物質氣化燒燼脫離。
用途:
1. MOCVD製程之 LED 磊晶石墨載片盤的清潔。
2. LED 再生晶圓 (Wafer) 之清潔處理。。

附註1:含治具
附註2:清潔空爐下
附註3:清潔空爐常溫下
附註4:空爐下,由 1400°C 降溫至 60 °C

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